制造半導體工業(yè)純化水設備(圖文)
發(fā)布時(shí)間: 2022-08-17 14:49:52 來(lái)源: 江蘇浦膜 瀏覽量:
半導體生產(chǎn)用超純設備概述:
半導體生產(chǎn)用超純水對TOC、DO、SIO2、Particulate的控制嚴格,達到PPb級,生產(chǎn)水質(zhì)在18.2m * CM(25)以上。
超純設備用于半導體生產(chǎn)的優(yōu)點(diǎn):
半導體芯片上的水主要在前端晶體硅片冷卻劑上,在基板晶片感應清洗水、中間晶片飛濺電鍍、曝光、電鍍、光刻、腐蝕等工藝清洗、后端感應封裝清洗上。LED芯片主要在前一段是MOCVD外延片生長(cháng)用水,中間部分主要檢測暴露、現象、光阻清潔用水,后面部分檢測包裝用水。另一方面,半導體行業(yè)對TOC的要求很高。
超純設備的工藝是根據不同的進(jìn)水水質(zhì)和出水要求設計的,因此,根據不同的原水質(zhì)量特性設計超純設備方案是經(jīng)濟實(shí)惠的,同時(shí)也是水質(zhì)長(cháng)期穩定滿(mǎn)足要求的保證。超純設備的用途不同,可能有不同的制造過(guò)程,或者結合幾種工藝,水質(zhì)達到預期的效果,也可以按類(lèi)別大致劃分,分為比較常用的預處理系統、反滲透系統、EDI電脫鹽超純系統、精密處理系統等。
半導體生產(chǎn)用超純設備工藝:
反滲透純設備
RO反滲透膜的工作原理是對水施加一定的壓力,使水分子和離子狀態(tài)的礦物元素通過(guò)一層半透膜,溶于水的大部分無(wú)機鹽(包括重金屬)、有機物、細菌、病毒等不能通過(guò)反滲透膜而通過(guò)的純凈水和不能通過(guò)的濃縮水嚴格分離。
半透膜的孔徑僅為0.0001um,但病毒的直徑一般為0.02-0.4um,普通細菌的直徑為0.4-1um。反滲透純水機的正常運行取決于一定的壓力,這種壓力大于滲透膜的滲透壓力,通常為2.8千克/平方厘米。
在水壓或水壓不穩定的地區,建議購買(mǎi)帶有前置增壓泵的反滲透純水系統。該系統工作壓力達到0.3-0.6Mpa,不受自來(lái)水壓力的限制,水效率高,速度快,濃縮水少。
反滲透有效脫鹽,一次反滲透設備出水電阻率一般為0.05-0.5M。是厘米。該純系統水生產(chǎn)質(zhì)量穩定,是目前比較普通的純生產(chǎn)設備,生產(chǎn)質(zhì)量基本滿(mǎn)足FPC/PCB生產(chǎn)需求。
EDI電脫鹽超純水系統
連續電脫鹽(EDI、Electro deionization或CDI、Continuous Electrode Ionization)利用混合離子交換樹(shù)脂吸附在水中的陰陽(yáng)離子上,同時(shí)吸附的離子在DC電壓的作用下這個(gè)過(guò)程是離子交換樹(shù)脂在電上連續再生的,所以不需要用酸和堿再生。
這項新技術(shù)取代了傳統的離子交換裝置,*高可達18??梢陨a(chǎn)厘米的超純水。整個(gè)過(guò)程前面的部分與一般的水處理過(guò)程沒(méi)有太大區別。一般先經(jīng)過(guò)預處理,再加入藥物清除病毒,然后經(jīng)過(guò)RO反滲透系統,使用EDI設備制作超純水。
半導體生產(chǎn)用超純水對TOC、DO、SIO2、Particulate的控制嚴格,達到PPb級,生產(chǎn)水質(zhì)在18.2m * CM(25)以上。
超純設備用于半導體生產(chǎn)的優(yōu)點(diǎn):
半導體芯片上的水主要在前端晶體硅片冷卻劑上,在基板晶片感應清洗水、中間晶片飛濺電鍍、曝光、電鍍、光刻、腐蝕等工藝清洗、后端感應封裝清洗上。LED芯片主要在前一段是MOCVD外延片生長(cháng)用水,中間部分主要檢測暴露、現象、光阻清潔用水,后面部分檢測包裝用水。另一方面,半導體行業(yè)對TOC的要求很高。
超純設備的工藝是根據不同的進(jìn)水水質(zhì)和出水要求設計的,因此,根據不同的原水質(zhì)量特性設計超純設備方案是經(jīng)濟實(shí)惠的,同時(shí)也是水質(zhì)長(cháng)期穩定滿(mǎn)足要求的保證。超純設備的用途不同,可能有不同的制造過(guò)程,或者結合幾種工藝,水質(zhì)達到預期的效果,也可以按類(lèi)別大致劃分,分為比較常用的預處理系統、反滲透系統、EDI電脫鹽超純系統、精密處理系統等。
半導體生產(chǎn)用超純設備工藝:
反滲透純設備
RO反滲透膜的工作原理是對水施加一定的壓力,使水分子和離子狀態(tài)的礦物元素通過(guò)一層半透膜,溶于水的大部分無(wú)機鹽(包括重金屬)、有機物、細菌、病毒等不能通過(guò)反滲透膜而通過(guò)的純凈水和不能通過(guò)的濃縮水嚴格分離。
半透膜的孔徑僅為0.0001um,但病毒的直徑一般為0.02-0.4um,普通細菌的直徑為0.4-1um。反滲透純水機的正常運行取決于一定的壓力,這種壓力大于滲透膜的滲透壓力,通常為2.8千克/平方厘米。
在水壓或水壓不穩定的地區,建議購買(mǎi)帶有前置增壓泵的反滲透純水系統。該系統工作壓力達到0.3-0.6Mpa,不受自來(lái)水壓力的限制,水效率高,速度快,濃縮水少。
反滲透有效脫鹽,一次反滲透設備出水電阻率一般為0.05-0.5M。是厘米。該純系統水生產(chǎn)質(zhì)量穩定,是目前比較普通的純生產(chǎn)設備,生產(chǎn)質(zhì)量基本滿(mǎn)足FPC/PCB生產(chǎn)需求。
EDI電脫鹽超純水系統
連續電脫鹽(EDI、Electro deionization或CDI、Continuous Electrode Ionization)利用混合離子交換樹(shù)脂吸附在水中的陰陽(yáng)離子上,同時(shí)吸附的離子在DC電壓的作用下這個(gè)過(guò)程是離子交換樹(shù)脂在電上連續再生的,所以不需要用酸和堿再生。
這項新技術(shù)取代了傳統的離子交換裝置,*高可達18??梢陨a(chǎn)厘米的超純水。整個(gè)過(guò)程前面的部分與一般的水處理過(guò)程沒(méi)有太大區別。一般先經(jīng)過(guò)預處理,再加入藥物清除病毒,然后經(jīng)過(guò)RO反滲透系統,使用EDI設備制作超純水。
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